氮化硼是一種化工添加劑，自然界是不存在的。目前所使用的氮化硼產(chǎn)品都是通過現(xiàn)代科技合成的。
      氮化硼問世于100多年前，最早的應(yīng)用是作為高溫潤滑劑的六方氮化硼[簡稱：h—BN，或a—BN，或g—BN(即石墨型氮化硼)]，h—BN不僅其結(jié)構(gòu)而且其性能也與石墨極為相似，且自身潔白，所以俗稱：白石墨。
氮化硼主要制作方法有：

高溫高壓合成法

     1957年Wentorf首次人工合成立方BN。在溫度接近或高于1700℃，最低壓強為11～12GPa時，由純六方氮化硼(HBN)直接轉(zhuǎn)變成立方氮化硼(CBN)。隨后人們發(fā)現(xiàn)使用催化劑可大幅度降低轉(zhuǎn)變溫度和壓力。常用的催化劑為：堿和堿土金屬、堿和堿土氮化物、堿土氟代氮化物、硼酸銨鹽和無機氟化物等。其中以硼酸銨鹽作催化劑所需的溫度和壓力最低，在1500℃時所需壓力為5GPa，而在壓力為6GPa時其溫度區(qū)間為600～700℃。由此可見，雖然加催化劑可大大降低轉(zhuǎn)變溫度和壓力，但所需的溫度和壓力還是較高。因而其制備的設(shè)備復(fù)雜、成本高，其工業(yè)應(yīng)用受到限制。

化學(xué)氣相合成法

      1979年Sokolowski成功利用脈沖等離子體技術(shù)在低溫低壓下制備成立方氮化硼(CBN)膜。所用設(shè)備簡單，工藝易于實現(xiàn)，因此得到迅速發(fā)展。已出現(xiàn)多種氣相沉積方法。傳統(tǒng)來講主要是指熱化學(xué)氣相沉積。實驗裝置一般由耐熱石英管和加熱裝置組成，基體既可以通過加熱爐加熱(熱壁CVD)，也可以通過高頻感應(yīng)加熱(冷壁CVD)。反應(yīng)氣體在高溫基體表面發(fā)生分解，同時發(fā)生化學(xué)反應(yīng)沉積成膜，反應(yīng)氣體有BCl3或B2H4與NH3的混合氣體。

水熱合成法

       此方法是在高壓釜里的高溫、高壓反應(yīng)環(huán)境中，采用水作為反應(yīng)介質(zhì)，使得通常難溶或不溶的物質(zhì)溶解，反應(yīng)還可進行重結(jié)晶。水熱技術(shù)具有兩個特點，一是其相對低的溫度，二是在封閉容器中進行，避免了組分揮發(fā)。作為一種低溫低壓合成方法，被用于在低溫下合成立方氮化硼。
苯熱合成法
     作為近幾年興起的一種低溫納米材料合成方法，苯熱合成受到廣泛關(guān)注。苯由于其穩(wěn)定的共軛結(jié)構(gòu)，是溶劑熱合成的優(yōu)良溶劑，最近成功地發(fā)展成苯熱合成技術(shù)，如反應(yīng)式：
BCl3+Li3N→BN+3LiCl或BBr3+Li3N→BN+3LiBr反應(yīng)溫度只有450℃，苯熱合成技術(shù)可以在相對低的溫度和壓力下制備出通常在極端條件下才能制得的、在超高壓下才能存在的亞穩(wěn)相。這種方法實現(xiàn)了低溫低壓制備立方氮化硼。但是這種方法尚處于實驗研究階段，是一種很有應(yīng)用潛力的合成方法。
自蔓延技術(shù)
      利用外部提供必要的能量誘發(fā)高放熱化學(xué)反應(yīng)，體系局部發(fā)生反應(yīng)形成化學(xué)反應(yīng)前沿(燃燒波)，化學(xué)反應(yīng)在自身放出熱量的支持下快速進行，燃燒波蔓延整個體系。這種方法雖然是傳統(tǒng)的無機合成方法，但近幾年才有報道用于氮化硼的合成。

碳熱合成技術(shù)

         該方法是在碳化硅表面上，以硼酸為原料的，碳為還原劑，氨氣氮化得到氮化硼的方法，所得產(chǎn)物純度很高，對于復(fù)合材料的制備具有很大的應(yīng)用價值。
離子束濺射技術(shù)
利用粒子束濺射沉積技術(shù)，得到立方氮化硼和六方氮化硼的混合產(chǎn)物。這種方法雖然雜質(zhì)較少，但是由于反應(yīng)條件難以控制，因此產(chǎn)物的形態(tài)難以控制，對這種方法的研究還有很大的發(fā)展?jié)摿Α?br /> 激光誘發(fā)還原法
用激光作為外加能源，誘發(fā)反應(yīng)前驅(qū)體之間的氧化還原反應(yīng)，并使B和N結(jié)合從而生成氮化硼，但是這種方法得到的也是混合相。