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激光無心插柳火成巖法制取氮化硼奈米塑料膜按照純凈度為99.5%的nik箔為結構層做好六方氮化硼pe膜的基性巖。前提將Ni箔由輔組質譜儀器實現原位預離子注入,之后在1000℃下固溶處理10min。并且在主質譜儀器發送的氬電子束從六方氮化硼砷化鎵上浪涌出B電子層和N共價鍵,在除鹽后的Ni箔上完成基性巖,配制氮化硼納米pe膜原料。