二茂鐵聚合物的光性能應用

文章出處：天元航材責任編輯：天元化工新材廠家發布時間：2018-03-27 17:37:07 點擊數：61 【大 中 小】

[導讀]：二茂鐵基聚合物是一類富電子體系，因此表現出優良的電化學性能，可以應用于電化學領域，如用于修飾材料、導電材料等。二茂鐵聚合物作為修飾材料可以提高原電極表面材料催化劑催化效率，提高電極...

二茂鐵聚合物的光性能應用

二茂鐵基聚合物是一類富電子體系，因此表現出優良的電化學性能，可以應用于電化學領域，如用于修飾材料、導電材料等。二茂鐵聚合物作為修飾材料可以提高原電極表面材料催化劑催化效率，提高電極的穩定性、選擇性以及靈敏度等。由于二茂鐵聚合物具有很強的導電性能。因此它在多個方面獲得了應用。例如將PFS用于作絕緣體的表面涂料，在電子束的輻射下，未見電弧的發生，鑒于PFS的導電性的性能，它能將聚集的電荷分散出去了，因此可以用于能保護航天器免受來自太陽的電子輻射，防止特種設備受到靜電的危害。電荷傳輸性能研究表明聚二茂鐵硅烷導電的載流體空穴，對于這些聚合物的摻雜導電性或者氧化導電性的研究還在探索深入中。

二茂鐵

光印刷（或光刻）是半導體工業器件制造的重要一環，減小光刻線寬和提高光刻團的精度是目前對光刻材料提出的新要求。二茂鐵基聚合物由于主鏈上有Fe，因此對紫外光、電子束、等離子、臭氧具有很好的穩定性，當在其上引入光敏基團后是很好的光致抗蝕劑。如將二茂鐵硅烷聚異戊二烯嵌段共聚物自組裝，經等離子刻蝕出去有機相，可得到PFS刻蝕圖案。主鏈二茂鐵基聚合物具有特殊的光穩定性，在其上引入光敏性基團，可得到負性光刻膠，可以實現自上而下的光刻成像。

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